纳米压印系统-光刻机 介绍了一个台式、独立的纳米压印平台。该平台提供了一个带有微型定位夹具的机械平台，用于安装纳米压印室、紫外线固化

硅穿孔工艺设备-光刻机 晶圆和晶圆之间制作垂直导通，实现芯片之间互连的新技术。能够使芯片在三维方向堆叠的密度大，芯片之间的互连线短，外形尺寸小，并且大大改善芯片速度和低功耗的性能，使目前电子封装技术中引人注目的新技术。

狭缝挤压型涂布仪-匀胶机 狭缝挤压型涂布仪夹缝式挤压型涂布仪（Slot Die Coater）可以用于可复制重复性测试。归功于桌面小型化的设计。它也可以大幅降低材料损耗。客户通过快速的多样化测试来获得更多客观结果。

无掩膜曝光机-光刻机 美国IMP（Intelligent Micro Patterning,LLC）公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光技术，已成为无掩模紫外光刻领域的。国内参考用户较多！

匀胶机、旋涂仪（德国产、高性能）SPIN150i单片匀胶机/旋涂仪具有广泛应用，包括 甩干，冲洗，清洁，涂胶。台式设计，无缝全塑料材质， 有天然聚丙烯（NPP）和聚四氟乙烯材质（PTFE）可选。有各种吸盘，适合样品衬底5mm--?160mm （or 6”） or 4“x4“. 更大尺寸均有！！

显影机-匀胶机 显影机 /湿法刻蚀机德国品质（配有防污染内衬，标配两个大小吸盘，性能优于美国同类品牌） 高精度，高可靠性，耐腐蚀，来源德国，多程序控制。

光刻机/紫外曝光机 该公司是目前世界上早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、精妙的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。

匀胶机其工作原理是高速旋转基片, 利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上, 厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同, 也和旋转速度及时间有关。