深能级瞬态谱仪是半导体领域研究和检测半导体杂质、缺陷深能级、界面态等的重要仪器。根据半导体P-N结、金－半接触结构肖特基结的瞬态电容（△C～t）技术和深能级瞬态谱（DLTS）的发射率窗技术测量出的深能级瞬态谱，是一种具有高检测灵敏度(检测灵敏度通常为半导体材料中掺杂济浓度的万分之一)的实验方法，能检测半导体中微量杂质、缺陷的深能级及界面态。通过对样品的温度扫描，可以给出表征半导体禁带范围内的杂质、缺陷深能级及界面态随温度（即能量）分布的DLTS谱，集成多种全自动的测量模式及全...

表面光电压谱主要应用于半导体材料或者器件的TPV测试和机理分析，光催化材料TiO2、C3N4、CdS、磷化物等、催化材料、分子筛、太阳能电池（单晶、多晶、染料敏化、钙钛矿）、光电化学的TPV、电化学材料的TPV等。光电压谱采用白光偏置光路激发材料；大功率*脉冲激光器；采用专有技术的电磁屏蔽，无任何外界干扰；测试光路，水平与垂直可任意在线切换，实现固体样品和液体样品均可测试分析。光生载流子动力学主要测试技术，载流子动力学测试技术主要有电学和谱学两类.电学方法主要是光电化学，测量...

气溶胶粒径谱仪触摸屏式显示和操作，集成网络服务器，实时显示测量数据，无需外接电脑，单台仪器可以连续自动测量数周，仪器配置标准接口，过程控制系统或通用程序可以控制该仪器，所以特别适用于控制和监测。粉尘发生器用于测量不同高度的飘浮颗粒物。样品流量由外置真空泵来维持供给，其流量大小由定流量孔口流量计来控制。仪器可实时检测气溶胶颗粒，粒径范围在0.25微米至32微米，具有31个粒径通道，测量结果可显示为颗粒数目浓度或选择显示为颗粒质量浓度。粉尘发生器易于安装、结构灵活、使用方便，只需...

多功能磁控溅射仪可以灵活运用多种膜生长技术，针对各种不同大小和形状的样品，非常方便切换沉积模式。多功能磁控溅射仪腔体的开放式设计，使得样品大小从几毫米到250毫米均可镀层。样品夹具可以轻松固定多个样品并同时镀膜。此系统真空腔内连接一个300mm宽的快速通道门，可以非常方便和快速地切换样品和靶源。这对于薄膜制备研究机构，面对多种材料增加或改变沉积方式，转换起来非常方便，并没有任何空间限制。溅射仪主要用于纳米级的单层及多层功能膜、各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性...

狭缝挤出式涂布机使用精密计量泵将过滤、除泡后的流体，保持恒定压力输送至超精密加工进口耐腐合金材料制挤压腔体内，通过直线吐出口将流体流延到片幅上。铜箔（或铝箔）由放料机构通过张力控制自动纠偏放料，通过挤压头将流体涂覆到箔带表面，涂好的箔带经烘箱烘干，通过纠偏及张力控制，整齐复卷到收料气涨轴，连续涂布，间隙涂布，连续斑马纹涂布，“田”字格涂布（间隙涂布配合斑马纹涂布）。挤压头采用日本优质耐腐，新型超硬不锈钢制作，采用进口精密计量泵供料，精密伺服电机驱动，保证浆料流速稳定。狭缝挤出...

磁控溅射体球网篮球即时比分 是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。一、原理：磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子...